金属离子是半导体良率一大杀手，因为任何金属离子落入芯片表面，都会导致电阻率发生巨大变化，导致芯片报废。所以半导体工艺中，需要这种超纯的去离子水，来保证在工艺处理过程中，没有任何离子杂质对芯片造成影响。

超纯水：指电阻率达到18 MΩ*cm(25℃)的水。这种水中除了水分子外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素。

所以为了半导体的良品率必须实用超纯水和去离子水。

去除 TOC——紫外线 (UV) 系统可用于有效去除通常被称为 TOC(总有机碳)的有机物。通过并入一套具有适当设计及选型的 185nm 紫外线系统，并策略性地将其与其他设备相结合排布，从而实现 TOC 去除。

消毒——紫外光在水处理中常见的应用。微电子用水系统中典型的安装位置可能是碳过滤器之后、RO(反渗透)之前和之后。

去氯/氯胺消解——尽管向城市用水中添加氯和氯胺可控制细菌水平，但是它们会对过滤或RO膜的除垢造成不良影响。紫外线可在去氯的同时解决这些问题，其采用更小的占地面积并可缩减维护成本。